即時過程控制的通用工具, 耐腐蝕性氣體, 抗冷凝
半導體製造的分子分析原位平臺, 提供即時, 可操作的資料
採用等離子體電離源, 無燈絲, 更耐用
可與大批量生產工具完全集成
Aston™ 作為一個強大的平臺, 可以取代多種傳統工具, 提供前所未有的控制水準, 包括光刻, 電介質和導電蝕刻及沉積, 腔室清潔, 腔室匹配和消解.
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適用於半導體过程控制質譜分析儀 Aston™
簡介
即時過程控制的通用工具, 耐腐蝕性氣體, 抗冷凝
半導體製造的分子分析原位平臺, 提供即時, 可操作的資料
採用等離子體電離源, 無燈絲, 更耐用
可與大批量生產工具完全集成
Aston™ 作為一個強大的平臺, 可以取代多種傳統工具, 提供前所未有的控制水準, 包括光刻, 電介質和導電蝕刻及沉積, 腔室清潔, 腔室匹配和消解.
技术规格
伯東公司代理日本 Atonarp 過程監測質譜儀 Aston™, 通過使用分子傳感技術, 提供半導體制程中 ALD, CVD, 蝕刻, ALE 和腔室在大批量生產中的氣體偵測分析, 實現尾氣線上監控, 診斷, 為半導體過程監測提供解決方案, 提高半導體製造工藝的產量, 吞吐量和效率, 在現有生產工藝工具上加裝 Aston, 可在短時間內實現晶圓更高產量!
Atonarp Aston™ 技術參數
|
類型 |
Impact-300 |
Impact-300DP |
Plasma-200 |
Plasma-200DP |
Plasma-300 |
Plasma-300DP |
|
型號 |
AST3007 |
AST3006 |
AST3005 |
AST3004 |
AST3003 |
AST3002 |
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質量分離 |
四級杆 |
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真空系統 |
分子泵 |
分子泵 |
分子泵 |
分子泵 |
分子泵 |
分子泵 |
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檢測器 |
FC /SEM |
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|
質量範圍 |
2-285 |
2-220 |
2-285 |
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|
解析度 |
0.8±0.2 |
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檢測限 |
0.1 PPM |
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工作溫度 |
15-35“℃ |
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功率 |
350 W |
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|
重量 |
15 kg |
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尺寸 |
299 x 218 x 331 LxWxH(mm) |
400 x 240 x 325 LxWxH(mm) |
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Atonarp Aston™ 應用: 半導體工藝過程監測控制和優化的重大發展, 提高半導體製造工藝的產量, 吞吐量和效率.
Aston™ 是一款全新設計堅固耐用的緊湊型質譜分析儀, 適用於半導體製造和工業過程控制應用中氣體監測和控制, 高定量精度和即時性與生產穩健性和可靠性相結合, 例如半導體 Dry pump 尾氣偵測分析, 實現線上監控,診斷.
CVD / ALD: 氧化物-氮化物過渡及成分分析
Etch/ALE End Point :<0.3%
Chamber Matching: 識別跟蹤分子
