2026-01-26 更新

阅读数 : 77

KRI 射频离子源 RFICP 325 应用于塑胶光学镜头镀膜

上海伯东客户某光学镜头制造商通过使用美国 KRI 射频离子源 RFICP 325 成功镀膜于塑胶基板并且通过 1,500 小时高温高湿严苛环境测试! 镀膜后的塑胶光学镜头满足智能手机镜头市场需求!

射频离子源塑胶光学镜头镀膜客户案例:
镀膜材料: 高折射率材料 Ti2O5 (氧化钛)
               低折射率材料 SiO2 (氧化硅)
应用: 塑胶光学镀膜
镀膜设备: 1米7 的大型蒸镀设备, 配置美国 KRI 射频离子源 RFICP 325
测试环境: 80C / 80% 湿度, 85C / 95% 湿度, 连续 1,500 小时高温高湿严苛环境测试
KRI RFICP 325
1米7 的大型蒸镀设备                                           射频离子源 RFICP 325                            离子源自动控制器

多数的光学镜头制造公司极力转型于塑胶基材的光学镜头组件以争取智能型手机镜头, 车用镜头, VR 虚拟现实镜头等等市场. 但都面对了在镀膜时制程问题, 例如: 脱膜, 光谱的不稳定, 均匀性不佳及无法在大型蒸镀机稳定的大量生产等问题. 伯东公司与美国 KRI 考夫曼离子源合作开发此款射频源 RFICP 325, 利用高均匀性的离子分布及高稳定的离子能量搭配于 1米7 的大型蒸镀设备, 此突破性的搭配解决了在塑胶基材镜头上无法达到高质量镀膜要求的问题, 同时也提升了企业生产效能.

上海伯东美国 KRi 考夫曼离子源适用于各类真空设备, 实现离子清洗 PC, 离子刻蚀 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 和离子束抛光 IBF 等工艺. 在真空环境下, 通过使用美国 KRi 考夫曼离子源, 制造从微米到亚纳米范围的关键尺寸的结构, KRi 离子源具有原子级控制的材料和表面特征.

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项成果. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国KRi考夫曼离子源中国总代理.

上海伯东同时提供各类真空系统所需的涡轮分子泵, 真空规, 高真空插板阀等产品, 协助客户生产研发高质量的真空系统.

若您需要进一步的了解 KRi 离子源 详细信息或讨论, 请参考以下联络方式:
上海伯东: 叶小姐                                                 台湾伯东: 王小姐
M: +86 1391-883-7267 ( 微信同号 )              T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490                                         F: +886-3-567-0049
M: +86 1391-883-7267 ( 微信同号 )              M: +886-939-653-958
qq: 2821409400 

现部分品牌诚招合作代理商, 有意向者欢迎联络上海伯东 叶小姐 1391-883-7267
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