KRi 离子源常见工艺应用

美国 KRi 射频离子源 RFICP 100 应用于国产离子束溅射镀膜机 IBSD

KRI 离子源应用于有机材料热蒸镀设备 OLED, OPV

KRi 射频离子源应用于超高真空磁控溅镀设备 UHV Sputter

KRi 离子源应用于磁控共溅镀设备 Co-sputter

KRi 离子源应用于电子束蒸镀设备 E-beam Evaporation System

KRi 射频离子源应用于多层膜磁控溅镀设备 Multilayer sputter

KRI 离子源应用于金属热蒸镀设备

KRi 射频离子源应用于车载摄像头镜片镀膜工艺

KRi 射频离子源应用于红外截止滤光片 IRCF 工艺